台湾积体电路制造股份有限公司廖诗瑀获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利记忆体装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223772419U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423301004.1,技术领域涉及:H10B12/00;该实用新型记忆体装置是由廖诗瑀;程仲良设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本记忆体装置在说明书摘要公布了:本揭露的一种态样为一记忆体装置。记忆体装置包含化合物半导体特征。化合物半导体特征包含第一部分作为第一源极漏极特征、第二部分作为通道、及第三部分作为第二源极漏极特征。第一部分位于第二部分上方,且第二部分位于第三部分上方,以及第二部分自第一部分垂直延伸至第三部分。记忆体装置包含水平地环绕包覆第二部分的栅极结构,以及直接接触且环绕包覆化合物半导体特征的电容结构。
本实用新型记忆体装置在权利要求书中公布了:1.一种记忆体装置,其特征在于,包含: 一化合物半导体特征,具有一第一部分作为一第一源极漏极特征、一第二部分作为一通道、及一第三部分作为一第二源极漏极特征,其中该第一部分位于该第二部分上方,且该第二部分位于该第三部分上方,以及该第二部分自该第一部分垂直延伸至该第三部分; 一栅极结构,水平地环绕包覆该第二部分;以及 一电容结构,直接接触且环绕包覆该化合物半导体特征。
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