ASML控股股份有限公司Y·弗拉迪米斯基获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML控股股份有限公司申请的专利光刻图案形成装置多通道定位和水平量规获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114008529B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080043458.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻图案形成装置多通道定位和水平量规是由Y·弗拉迪米斯基;L·雷日科夫设计研发完成，并于2020-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻图案形成装置多通道定位和水平量规在说明书摘要公布了：一种图案形成装置对准系统，包括多路径感测阵列，该多路径感测阵列包括第一准直光路和一个或多个其他光路，第一检测器位于第一准直光路的第一端处，第二检测器位于一个或多个其他光路第一端处。第一检测器从被照射的图案形成装置接收经反射的照射束并且对图案形成装置的倾斜参数进行计算，并且第二检测器从分束器接收第二经反射的照射束并且对图案形成装置的XY平面定位位置和旋转位置进行计算。
本发明授权光刻图案形成装置多通道定位和水平量规在权利要求书中公布了：1.一种图案形成装置对准系统，包括： 多通道感测阵列，包括第一准直光路和一个或多个其他光路； 第一检测器，位于所述第一准直光路的第一端处；以及 第二检测器，位于所述一个或多个其他光路的第一端处， 所述第一检测器从被照射的图案形成装置接收经反射的照射束，并且被配置为对所述图案形成装置的倾斜参数进行计算，以及 所述第二检测器从分束器接收第二经反射的照射束，并且被配置为对所述图案形成装置的X-Y平面定位位置和旋转位置进行计算。
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