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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利真空处理装置的运转方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114568036B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080008523.4，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权真空处理装置的运转方法是由内木大地;末光芳郎;沼田慎一郎设计研发完成，并于2020-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空处理装置的运转方法在说明书摘要公布了：一种在真空处理装置中依次处理多片晶片的真空处理装置的运转方法，其中，所述真空处理装置具备：多个真空输送容器，其在前后方向上配置，并配置有向内部的输送室输送处理对象的晶片的输送机器人，且相邻的两个连结；锁定室，其与在多个真空输送容器中的配置在最前方的真空输送容器连接，在内部收纳有晶片；以及多个处理单元，其分别与多个真空输送容器连接，并对配置在真空容器的内部的晶片进行处理，多个处理单元分别在经过给定的期间后，实施对内部进行清洁的工序，在开始晶片的处理前，预先从多个处理单元之中设定多个对各个晶片进行处理的处理单元的集合，按照这多个处理单元的集合中所包含的处理单元的数量从大到小的顺序且按照所包含的处理单元离锁定室从远到近的顺序，每次延迟给定的期间，开始晶片的处理。

本发明授权真空处理装置的运转方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理装置的运转方法，在真空处理装置中依次处理多片晶片，所述真空处理装置具备：多个真空输送容器，其在前后方向上配置，并配置有向内部的输送室输送处理对象的所述晶片的输送机器人，且相邻的两个真空输送容器被连结；锁定室，其在所述多个真空输送容器中的配置在最前方的真空输送容器的前方与该真空输送容器连接，在内部收纳有所述晶片；以及多个处理单元，其分别与所述多个真空输送容器连接，并对配置在真空容器的内部的所述晶片进行处理，所述真空处理装置的运转方法的特征在于， 所述多个处理单元的每一个在经过给定的期间后，实施对所述处理单元内部进行清洁的工序， 在开始多个片数的所述晶片的处理前，预先从多个所述处理单元之中设定对各个所述晶片进行处理的处理单元的多个集合，按照这多个所述处理单元的集合中所包含的所述处理单元的数量从大到小的顺序且按照所包含的所述处理单元离锁定室从远到近的顺序，每次延迟所述给定的期间，开始所述晶片的处理。

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