日亚化学工业株式会社岸川大介获国家专利权
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龙图腾网获悉日亚化学工业株式会社申请的专利发光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115224174B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210408724.4，技术领域涉及：H10H20/85；该发明授权发光装置是由岸川大介;多田孝昭;户田智久;石田直树;远藤善纪设计研发完成，并于2022-04-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光装置在说明书摘要公布了：本发明提供可靠性较高的发光装置。发光装置具备：基体，具有上表面；发光元件，载置于上述基体的上表面；接合部件，配置于比上述发光元件靠外侧的上述基体的上表面；透光性部件，通过上述接合部件与上述基体的上表面的一部分接合；以及保护膜，覆盖上述基体的上表面和上述发光元件，在上述基体的上表面与上述透光性部件的下表面之间具有间隙，上述间隙从供上述发光元件配置的空间贯通至发光装置的外部，并且通过上述基体的上表面、上述透光性部件的下表面以及上述接合部件设置上述间隙，上述保护膜连续地覆盖上述发光元件、上述基体的上表面、上述接合部件的侧面以及上述透光性部件的下表面。
本发明授权发光装置在权利要求书中公布了：1.一种发光装置，其中，具备： 基体，具有上表面； 发光元件，载置于上述基体的上表面； 接合部件，配置于比上述发光元件靠外侧的上述基体的上表面； 透光性部件，通过上述接合部件与上述基体的上表面的一部分接合；以及 保护膜，覆盖上述基体的上表面和上述发光元件， 在上述基体的上表面与上述透光性部件的下表面之间具有间隙，上述间隙从供上述发光元件配置的空间贯通至发光装置的外部，并且通过上述基体的上表面、上述透光性部件的下表面以及上述接合部件设置上述间隙， 上述保护膜连续地覆盖上述发光元件、上述基体的上表面、上述接合部件的侧面以及上述透光性部件的整个下表面。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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