合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司高昕伟获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利防反射复合膜、显示面板和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115498127B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211145836.1,技术领域涉及:H10K59/80;该发明授权防反射复合膜、显示面板和显示装置是由高昕伟;张帅;赵康;王宁宁;梁红港;马凯葓设计研发完成,并于2022-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本防反射复合膜、显示面板和显示装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种防反射复合膜、包括该防反射复合膜的显示面板和显示装置。该防反射复合膜包括基材和位于所述基材的至少一侧表面上的防反射复合材料层,其中所述防反射复合材料层至少包括折射率不同的两个反射材料层。本发明的技术方案可以在降低显示面板反射率的同时,还可以降低环境中短波长紫外线对显示装置内膜层的损伤。
本发明授权防反射复合膜、显示面板和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种防反射复合膜,其特征在于,包括基材和分别形成于基材两侧表面的第一防反射复合材料层和第二防反射复合材料层,其中所述第一防反射复合材料层包括第一防反射材料层和第二防反射材料层,所述第二防反射复合材料层包括第三防反射材料层和第四防反射材料层; 所述基材的一侧表面包括位于所述基材一侧表面的所述第一防反射材料层,以及位于所述第一防反射材料层背离所述基材的表面的所述第二防反射材料层,相对的一侧表面包括所述第三防反射材料层和所述第四防反射材料层; 所述第一防反射材料层的折射率大于所述第二防反射材料层的折射率; 所述第三防反射材料层和所述第四防反射材料层的折射率如分别对所述第一防反射材料层和所述第二防反射材料层所做限定; 所述第一防反射材料层和所述第三防反射材料层由硅氮化物SiNx形成,所述第二防反射材料层和所述第四防反射材料层由氟化钠NaF形成。
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