富士胶片株式会社土桥彻获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利处理液、图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787717B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080084911.0，技术领域涉及：G03F7/32；该发明授权处理液、图案形成方法是由土桥彻;高桥智美;清水哲也设计研发完成，并于2020-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本处理液、图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种处理液，当所述处理液使用于抗蚀剂膜的显影和清洗中的至少一种处理时，解析性优异、薄膜化抑制性优异且残渣抑制性优异。并且，提供一种有关上述处理液的图案形成方法。本发明的处理液是一种用于对由感光化射线或感放射线性组合物获得的抗蚀剂膜进行显影和清洗中的至少一种处理且包含有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液包含满足规定条件的第一有机溶剂、满足规定条件的第二有机溶剂。
本发明授权处理液、图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种处理液，其为用于对由感光化射线或感放射线性组合物获得的抗蚀剂膜进行曝光后的显影及清洗中的至少一种处理的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液包含： 满足下述条件A的第一有机溶剂及满足下述条件B的第二有机溶剂， 条件A：由式1求出的SP值为15.0MPa12以上且小于16.5MPa12， 并且为烃类溶剂、酯类溶剂、醚类溶剂或碳酸酯类溶剂， 式1：SP值=δd2+δp2+δh20.5 SP值：有机溶剂的汉森溶解度参数 δd：有机溶剂的分散项 δp：有机溶剂的极性项 δh：有机溶剂的氢键项 条件B： 由所述式1求出的SP值为16.5MPa12以上且17.0MPa12以下， 由式2求出的X为7.0以上且小于20.0， 并且为碳数5～8的酯类溶剂或碳数5～9的碳酸酯类溶剂， 式2：X=δp2δd2+δp2+δh2×100。
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