霍尼韦尔有限公司托比亚斯·内贝尔获国家专利权
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龙图腾网获悉霍尼韦尔有限公司申请的专利用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114965517B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210180337.X，技术领域涉及：G01N23/04；该发明授权用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器是由托比亚斯·内贝尔;李亨善;塞巴斯蒂安·蒂克西尔设计研发完成，并于2022-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器在说明书摘要公布了：本发明题为用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器。本发明公开了一种方法，该方法包括接收从x射线发射器传输穿过涂覆的隔离膜的x射线信号。该方法还包括从该涂覆的隔离膜获得红外IR信号。这些IR信号包括两个或更多个光谱分量，这些光谱分量包括峰，这些峰包括来自该隔离膜的第一峰。该方法还包括由处理器确定是否存在第二峰，以及确定该涂覆的隔离膜内存在的涂层中是否存在至少一种污染物添加剂。该方法还包括由该处理器计算该至少一种污染物添加剂的浓度面积重量以及该涂层的重量、密度或厚度。
本发明授权用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器在权利要求书中公布了：1.一种对隔离膜进行检测的方法，包括： 接收x射线信号，所述x射线信号从x射线发射器传输穿过涂覆的隔离膜180； 获得从所述涂覆的隔离膜180生成的红外信号，其中所述红外信号包括两个或更多个光谱分量，所述两个或更多个光谱分量包括峰，所述峰包括第一峰； 由处理器151确定所述峰当中是否存在第二峰，以及基于所述第二峰的波长，由所述处理器151基于所述第二峰来确定所述涂覆的隔离膜180内存在的涂层180b中是否存在至少一种污染物或添加剂，并且其中所述第二峰的波长确定了至少一种污染物或添加剂的类型； 基于第二峰的波长来确定至少一种污染物或添加剂的类型；以及 基于x射线信号与红外信号，由所述处理器151计算所述至少一种污染物或添加剂的浓度或面积重量以及所述涂层180b的重量、密度或厚度。
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