易安爱富科技有限公司金惠智获国家专利权
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龙图腾网获悉易安爱富科技有限公司申请的专利光刻胶剥离液组合物及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115598941B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210742158.0,技术领域涉及:G03F7/42;该发明授权光刻胶剥离液组合物及其制备方法是由金惠智;俞珍浩;曹男基设计研发完成,并于2022-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻胶剥离液组合物及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种在半导体器件制造工序中用于去除光刻胶的剥离液组合物及其制备方法。根据本发明,可以在提高光刻胶的剥离力的同时,防止下部膜的腐蚀,提高组合物的经时变化稳定性。
本发明授权光刻胶剥离液组合物及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种光刻胶剥离液组合物,其中,所述组合物包括: 有机溶剂; 四甲基氢氧化铵; 胺化合物;以及 抗氧化剂, 并且,所述组合物不含无机盐, 所述抗氧化剂包含由化学式1或2表示的化合物, 所述有机溶剂的含量为60至90重量%: [化学式1] 在所述式中, X1及X2彼此独立地为N或O, R1及R2彼此独立地为H、C1-2烷基、OH或NH2,且不同时为H, 当R1或R2为OH时,X1或X2为O; [化学式2] 在所述式中, X3及X4彼此独立地为N或O, R3及R4彼此独立地为H、C1-2烷基、COORa、OH或NH2,Ra为H或C1-2烷基。
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