上海积塔半导体有限公司伏星获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利测试结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223829816U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520074283.8,技术领域涉及:H10P74/20;该实用新型测试结构是由伏星;陈江卡;周山;杨晨设计研发完成,并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本测试结构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及一种测试结构,涉及集成电路技术领域,在该测试结构中,在第一测试结构的第一连接部上设置了与第一测试指一一对应的第一定位组件。当第一测试结构与第二测试结构之间出现短路时,第一定位组件可以精确定位到相应位置的第一测试指,从而精确测试到短路发生的位置,极大地提升失效位置定位的精确度,提升失效分析的准确性和成功率。
本实用新型测试结构在权利要求书中公布了:1.一种测试结构,其特征在于,包括: 第一测试结构,包括第一连接部以及第一测试指,所述第一连接部在第一方向上延伸,所述第一测试指在所述第一连接部上,沿所述第一方向依次间隔排布,所述第一测试指沿第二方向延伸;所述第一方向与所述第二方向位于同一平面,且所述第一方向与所述第二方向交叉设置; 第一定位组件,位于所述第一测试指的一侧的所述第一连接部上,与所述第一测试指一一对应设置; 第二测试结构,沿所述第一测试指与所述第一连接部边缘呈蛇形延伸。
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