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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司申请的专利一种排液装置及排液方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114388383B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011119580.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权一种排液装置及排液方法是由慎吉晟;卢一泓;李琳;胡艳鹏;张月设计研发完成，并于2020-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种排液装置及排液方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种排液装置及排液方法，涉及半导体领域，以解决清洗过程中高温化学液降温时间久所导致的换液时间久的问题。该排液装置包括：化学液槽、排液管道、以及排液槽；化学液槽通过排液管道与排液槽连通；排液装置还包括设在排液管道上的冷却管线；冷却管线用于在排液管道内化学液的温度高于温度阈值时，对排液管道及排液管道内化学液进行降温。排液方法包括上述技术方案所提的。本发明提供的排液装置及排液方法用于对高温化学液快速降温及更换。

本发明授权一种排液装置及排液方法在权利要求书中公布了：1.一种排液装置，其特征在于，所述排液装置包括：化学液槽、排液管道、以及排液槽；所述化学液槽通过所述排液管道与所述排液槽连通；所述排液装置还包括设在所述排液管道上的冷却管线； 所述冷却管线用于在所述排液管道内化学液的温度高于温度阈值时，对所述排液管道及所述排液管道内化学液进行降温； 所述冷却管线还用于在所述排液槽内的化学液温度高于温度阈值时，对所述排液管道及所述排液管道内化学液进行降温； 所述排液管道包括第一排液管、第二排液管、第三排液管和第四排液管；冷却管线设置在所述第一排液管、所述第二排液管、所述第三排液管和所述第四排液管上； 所述排液装置还包括：过滤器、加热器和泵；所述化学液槽通过第一排液管与所述过滤器的入口连通，所述过滤器的第一出口通过第二排液管与所述排液槽连通，所述过滤器的第二出口通过所述第三排液管与所述加热器连通，所述加热器还与所述第四排液管与所述泵连通；所述泵与所述化学液槽连通，所述泵还与所述排液槽连通； 所述化学液槽分为内槽和外槽，所述内槽的化学液的排放分为两路，第一路是所述内槽与所述过滤器的入口连通，所述过滤器的第一出口与所述加热器连通，所述加热器再与第一阀门连通，再将所述第一阀门连接到排液槽入口阀门，第二路是所述过滤器的第二出口与第二阀门连通，所述第二阀门连接到排液槽入口阀门； 所述外槽的化学液的排放为第三路，所述外槽通过第三阀门与所述泵连通，再将所述泵连接到排液槽入口阀门；其中，第一路和第二路共用过滤器；排液槽入口阀门连接到排液槽，用于排放排液管道的化学液。

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