东京毅力科创株式会社和田敏治获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利用于对基底进行多重图案化的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111415860B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910013080.7，技术领域涉及：H10P76/20；该发明授权用于对基底进行多重图案化的方法是由和田敏治设计研发完成，并于2019-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于对基底进行多重图案化的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于对基底进行多图案多重图案化的方法。公开了用于提供基底处理中的蚀刻选择性的方法。更具体地，提供了对包含不同材料的多种暴露结构的等离子体处理。所述等离子体处理将优先提高暴露结构中的至少两种之间的蚀刻选择性。在一个实施方案中，将多种暴露结构用作多重图案化基底工艺的一部分。在一个实施方案中，暴露结构可以包括有机平坦化层和旋涂金属层。等离子体处理可以包括使用氮气和氢气形成的等离子体以及由这种等离子体发射真空紫外VUV波长辐射。
本发明授权用于对基底进行多重图案化的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于处理基底的方法，所述方法包括： 提供所述基底； 提供旋涂金属层； 提供第二层，其中使旋涂金属层表面和第二层表面两者均被暴露； 用第一等离子体工艺对所述旋涂金属层表面和所述第二层表面进行表面改性以至少致密化所述旋涂金属层的一个表面，所述表面改性使所述旋涂金属层与所述第二层之间的蚀刻选择性增大；以及 对所述第二层进行等离子体蚀刻，同时所述旋涂金属层也被暴露，所述旋涂金属层与所述第二层之间的所增大的蚀刻选择性使在所述第二层的等离子体蚀刻期间所述旋涂金属层的被去除的量减少。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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