东京毅力科创株式会社盐泽崇博获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法、存储介质以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112447503B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010880215.2，技术领域涉及：H10P76/20；该发明授权基板处理方法、存储介质以及基板处理装置是由盐泽崇博;只友浩贵;甲斐亚希子;一之宫博设计研发完成，并于2020-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法、存储介质以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及基板处理装置，对于抑制抗蚀图案的图案倒塌有效。本公开的一个方面所涉及的基板处理方法包括：向形成有抗蚀膜的基板的表面供给用于形成抗蚀图案的显影液；执多次清洗处理，该清洗处理是向形成有抗蚀图案的基板的表面供给包含具有亲水基的改性剂的改性液并向基板的表面供给用于去除改性液的冲洗液的处理；以及在执行多次清洗处理后，使基板的表面干燥。
本发明授权基板处理方法、存储介质以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括： 向形成有抗蚀膜的基板的表面供给用于形成抗蚀图案的显影液； 执行多次清洗处理以在所述基板的表面形成改性层，所述清洗处理是向形成有所述抗蚀图案的所述基板的表面供给包含具有亲水基的改性剂的改性液并向所述基板的表面供给用于去除所述改性液的冲洗液的处理；以及 在执行多次所述清洗处理后，使所述基板的表面干燥， 其中，向所述基板的表面供给所述冲洗液包括： 在所述基板静止的状态下，开始向所述基板的表面供给所述冲洗液；以及 一边使所述基板旋转一边继续供给所述冲洗液， 其中，在供给所述改性液期间，以第一速度使所述基板旋转，然后以高于所述第一速度的第二速度使所述基板旋转，以及 其中，在供给所述冲洗液期间，在所述基板的转速为零的状态下开始供给所述冲洗液，然后使所述基板旋转并使所述基板的转速达到高于零的第三速度，然后以高于所述第三速度的第四速度使所述基板旋转。
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