佳能株式会社高桥和弘获国家专利权
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龙图腾网获悉佳能株式会社申请的专利曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114114847B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111018293.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法是由高桥和弘设计研发完成，并于2021-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法。曝光装置包括照明光学系统、投影光学系统、以及控制器，所述照明光学系统用于照明包括周期图案的原版，所述投影光学系统用于在基板上形成所述原版的图像，所述控制器被配置为使来自所述照明光学系统的光斜入射在所述原版上使得由衍射光束在所述投影光学系统的光瞳区域中形成光强度分布，并且控制所述基板的曝光使得所述基板的投射区域中的每个点在不少于两个聚焦状态下被曝光，所述光强度分布相对于经过所述光瞳区域的原点并且与所述周期图案的周期方向正交的线线对称，所述衍射光束包括来自所述周期图案的不低于2阶的衍射光。
本发明授权曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法在权利要求书中公布了：1.一种曝光装置，所述曝光装置包括照明光学系统和投影光学系统，所述照明光学系统被配置为照明包括周期图案的原版，所述投影光学系统被配置为在基板上形成所述原版的图像，所述装置包括 控制器，所述控制器被配置为使来自所述照明光学系统的光斜入射在所述原版上使得由多个衍射光束在所述投影光学系统的光瞳区域中形成包括四个高光强度部分的光强度分布，所述光强度分布相对于经过所述投影光学系统的光瞳区域的原点并且与所述周期图案的周期方向正交的直线线对称，所述多个衍射光束包括来自所述周期图案的低于2阶的衍射光和不低于2阶的衍射光，并且所述控制器被配置为基于散焦量的间隔来控制所述基板的曝光使得所述基板的投射区域中的每个点在不少于两个聚焦状态下被曝光，在来自所述四个高光强度部分的四个光当中的两个光的组合中相位差在所述散焦量处变为零，其中所述相位差由于所述散焦量的改变而出现。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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