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龙图腾网获悉西安北方华创微电子装备有限公司;北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114256104B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111435874.6，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备是由宋兴亮;李强;方林;杨帆设计研发完成，并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明实施例提供了一种腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备，应用于半导体装备技术领域，该方法包括：从多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及确定处于闲置状态的目标气体分析仪，打开目标气体分析仪与目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭目标气体分析仪与其它工艺腔室之间的隔离阀，使目标气体分析仪只与目标工艺腔室连通，启动目标气体分析仪，使目标气体分析仪在根据目标工艺腔室内的气体成分确定目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示目标工艺腔室泄漏的第一报警信息。在包括多个工艺腔室的半导体工艺设备中，多个工艺腔室可以共享气体分析仪，因此可以在半导体工艺设备中设置较少的气体分析仪，降低半导体工艺设备的成本。

本发明授权腔室泄漏检测方法和半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种腔室泄漏检测方法，其特征在于，应用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备中包括多个工艺腔室和至少一个气体分析仪，所述工艺腔室分别通过隔离阀与所述气体分析仪连接；所述方法包括： 从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，以及从所述至少一个气体分析仪中确定处于闲置状态的目标气体分析仪； 打开所述目标气体分析仪与所述目标工艺腔室之间的隔离阀，并关闭所述目标气体分析仪与其它所述工艺腔室之间的隔离阀，使所述目标气体分析仪只与所述目标工艺腔室连通； 启动所述目标气体分析仪，使所述目标气体分析仪在根据所述目标工艺腔室内的包含工艺气体的气体成分确定所述目标工艺腔室泄漏的情况下，输出指示所述目标工艺腔室泄漏的第一报警信息； 所述从所述多个工艺腔室中确定符合预设测漏条件的目标工艺腔室，包括： 在所述半导体工艺设备处于工作状态的情况下，将所述多个工艺腔室中发生目标事件的工艺腔室作为所述目标工艺腔室；所述目标事件标志所述工艺腔室被启动执行预设工艺； 在所述半导体工艺设备处于待机状态的情况下，顺序从所述多个工艺腔室中选择未与所述气体分析仪连通的工艺腔室作为所述目标工艺腔室。

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