上海华力集成电路制造有限公司李葆轩获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利OPC修正方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114460806B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210103826.5,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权OPC修正方法是由李葆轩;刘佳琦设计研发完成,并于2022-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本OPC修正方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种OPC修正方法,包括:步骤一、提供原始版图,原始版图中存在密集图形和孤立图形的过渡区域,在过渡区域中存在两条以上的半孤立线端对齐于对齐直线上的结构。步骤二、找到所有对齐直线以及对应的各半孤立线端。步骤三、进行所述半孤立线端的预调整,包括:进行伸长或缩短来调节半孤立线端的侧面位置,使各相邻的对齐于对齐直线的两个半孤立线端的侧面之间具有第一间距,通过增加第一间距增加和半孤立线端临近的密集图形的OPC修正的工艺窗口;原始版图在经过半孤立线端调节后成为中间版图。步骤四、对中间版图进行OPC修正。本发明能提高临近于半孤立线端对齐位置处的密集图形的OPC修正的工艺窗口。
本发明授权OPC修正方法在权利要求书中公布了:1.一种OPC修正方法,其特征在于,包括如下步骤: 步骤一、提供需要进行OPC修正的原始版图,所述原始版图中存在密集图形和孤立图形的过渡区域,在所述过渡区域中存在多条半孤立线端,各所述半孤立线端和对应的所述密集图形临近; 在所述过渡区域中存在两条以上的所述半孤立线端对齐于对齐直线上的结构,所述对齐直线和所述半孤立线端的长度方向垂直; 步骤二、在所述原始版图中找到所有所述对齐直线以及各所述对齐直线对应的各所述半孤立线端; 步骤三、进行所述半孤立线端的预调整,包括:沿相应的所述半孤立线端的长度延伸方向进行伸长或缩短来调节所述半孤立线端的侧面位置,使各相邻的对齐于所述对齐直线的两个所述半孤立线端的侧面之间具有第一间距,通过增加所述第一间距增加和所述半孤立线端临近的所述密集图形的OPC修正的工艺窗口;所述原始版图在经过所述半孤立线端调节后成为中间版图; 步骤四、对所述中间版图进行OPC修正; 所述原始版图中包括金属层图形,所述密集图形、所述孤立图形和所述半孤立线端都为金属层图形; 在密集图形区域中,各所述密集图形都呈条形结构且各所述密集图形都沿宽度方向上周期排列。
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