中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司姜喆求获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司申请的专利晶片清洗装置及晶片清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114678322B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011555151.5，技术领域涉及：H10P72/76；该发明授权晶片清洗装置及晶片清洗方法是由姜喆求;高建峰;卢一泓;刘卫兵;丁云凌设计研发完成，并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶片清洗装置及晶片清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种晶片清洗装置及晶片清洗方法，其中晶片清洗装置包括：喷嘴、固定座和旋转驱动组件；所述喷嘴固定设置在所述固定座朝向第一方向的一侧；所述喷嘴用于对晶片喷射清洗物；所述固定座用于在所述喷嘴对所述晶片进行喷洗时，将所述晶片固定在所述固定座朝向所述第一方向的一侧；所述旋转驱动组件用于在喷嘴暂停对所述晶片进行喷洗时，带动所述晶片相对所述固定座转动指定角度。本发明能够提高晶片清洗的均匀性。
本发明授权晶片清洗装置及晶片清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种晶片清洗装置，其特征在于，包括：喷嘴、固定座和旋转驱动组件； 所述喷嘴固定设置在所述固定座朝向第一方向的一侧，所述第一方向为朝向上的方向； 所述喷嘴用于对晶片喷射清洗物； 所述固定座用于在所述喷嘴对所述晶片进行喷洗时，通过吸附将所述晶片固定在所述固定座朝向所述第一方向的一侧； 所述旋转驱动组件用于在喷嘴暂停对所述晶片进行喷洗时，带动所述晶片相对所述固定座转动指定角度； 所述旋转驱动组件包括：旋转台、旋转驱动件和升降驱动件； 所述旋转驱动件用于在喷嘴暂停对晶片进行喷洗时，带动所述旋转台转动所述指定角度； 所述升降驱动件用于在喷嘴暂停对所述晶片进行喷洗时，带动所述旋转台上下移动； 所述旋转台用于在喷嘴暂停对所述晶片进行喷洗时，带动所述晶片移动； 所述旋转驱动件和所述升降驱动件均与所述旋转台连接； 所述固定座朝向所述第一方向的表面开设有储放槽；在所述晶片清洗装置对晶片进行清洗的过程中，所述旋转台位于所述储放槽内，且所述旋转台与所述固定座的上表面保持水平平齐。
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