应用材料公司拉尔夫·彼得·安东尼奥获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746989B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082546.X，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备是由拉尔夫·彼得·安东尼奥;盛殊然;林·张;约瑟夫·C·沃纳设计研发完成，并于2020-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备在说明书摘要公布了：本文提供了用于检测紫外光的方法和设备。例如，紫外UV处理腔室包括：真空窗或透明喷头；UV光源，设置在真空窗或透明喷头的一个的上方，并配置成产生UV光并将UV光传送到UV处理腔室的处理空间中；和第一UV传感器，配置成测量来自UV光源的发射率或传送到处理空间中的UV光的辐照度的至少一个，并在操作期间将与来自UV光源的发射率或UV光的辐照度的所测量的至少一个相对应的信号传送到耦合到UV处理腔室的控制器。
本发明授权用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种紫外UV处理腔室，包含： 真空窗或透明喷头； UV光源，设置在所述真空窗或所述透明喷头的一个的上方，并配置成产生UV光并将所述UV光传送到所述UV处理腔室的处理空间中；和 第一UV传感器，在操作期间是可移动的，并且配置成测量来自所述UV光源的发射率或传送到所述处理空间中的所述UV光的辐照度的至少一个，并在操作期间将与来自所述UV光源的发射率或所述UV光的辐照度的所测量的至少一个相对应的信号传送到耦合到所述UV处理腔室的控制器。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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