云谷(固安)科技有限公司吉小龙获国家专利权
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龙图腾网获悉云谷(固安)科技有限公司申请的专利掩膜组件以及曝光显影方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114815497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210612050.X,技术领域涉及:G03F1/54;该发明授权掩膜组件以及曝光显影方法是由吉小龙设计研发完成,并于2022-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜组件以及曝光显影方法在说明书摘要公布了:本申请提供一种掩膜组件以及曝光显影方法,掩膜组件包括至少一个掩膜板,掩膜板具有沿第一方向并排设置的拼接区和非重叠曝光区,掩膜板包括遮挡部和透光部;遮挡部包括位于拼接区的第一遮挡部和位于非重叠曝光区的第二遮挡部,第一遮挡部和第二遮挡部用于遮挡光线;透光部连接于遮挡部并用于曝光显影,透光部包括位于拼接区的第一透光部和位于非重叠曝光区的第二透光部,第一遮挡部位于第一透光部背离非重叠曝光区的一侧,其中,第一透光部的透光率大于零,且小于第二透光部的透光率。本申请提供的掩膜组件能够降低基板上本该被保留的图案被刻蚀掉的风险,降低基板上形成的图案的线宽变细或者断线的风险。
本发明授权掩膜组件以及曝光显影方法在权利要求书中公布了:1.一种曝光显影方法,其特征在于,包括: 提供基板,所述基板包括并排设置的第一曝光区、二次曝光区和第二曝光区,所述二次曝光区位于所述第一曝光区和所述第二曝光区之间; 提供掩膜组件,所述掩膜组件包括至少一个掩膜板,所述掩膜板具有沿第一方向并排设置的拼接区和非重叠曝光区;所述掩膜板包括遮挡部和透光部,所述遮挡部包括位于所述拼接区的第一遮挡部和位于所述非重叠曝光区的第二遮挡部,所述第一遮挡部和所述第二遮挡部用于遮挡光线;所述透光部连接于所述遮挡部并用于曝光显影,所述透光部包括位于所述拼接区的第一透光部和位于所述非重叠曝光区的第二透光部,所述第一遮挡部位于所述第一透光部背离所述非重叠曝光区的一侧,其中,所述第一透光部的透光率大于零,且小于所述第二透光部的透光率; 同一所述掩膜板上,所述拼接区包括第一拼接子区和第二拼接子区,所述第一拼接子区和所述第二拼接子区分别设置于所述非重叠曝光区相对的两侧;或者所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板,所述拼接区包括位于所述第一掩膜板的第一拼接子区和位于所述第二掩膜板的第二拼接子区; 所述第一拼接子区内所述第一透光部和同一所述掩膜板上所述第二遮挡部的最小间距d1、所述第二拼接子区内所述第一透光部的宽度W2满足:d1≥W2;和或,所述第二拼接子区内所述第一透光部和同一所述掩膜板上所述第二遮挡部的最小间距d2、所述第一拼接子区内所述第一透光部的宽度W1满足:d2≥W1; 采用所述掩膜组件对所述第一曝光区和所述二次曝光区进行第一次曝光显影,所述掩膜板覆盖所述二次曝光区和所述第一曝光区; 采用所述掩膜组件对所述第二曝光区和所述二次曝光区进行第二次曝光显影,所述掩膜板覆盖所述二次曝光区和所述第二曝光区;在使用所述掩膜组件对所述基板进行曝光的过程中,将所述拼接区和所述非重叠曝光区的边界作为拼接线,并尽量使相邻两次曝光采用的所述掩膜板的所述拼接线相互重合。
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