上海积塔半导体有限公司吕其尧获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115236946B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210878193.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法是由吕其尧设计研发完成，并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法。本申请中的镜头缺陷检测方法包括：提供晶圆；所述晶圆包括多个曝光区域；对各所述曝光区域进行曝光，在所述多次曝光的过程中，至少采用两种不同的曝光能量；在所述多次曝光后，根据各所述曝光区域是否出现斑点判断所述镜头是否存在缺陷；若所述曝光区域出现斑点，则判定所述镜头存在缺陷。本申请提供的镜头缺陷检测方法，通过采用不同的曝光能量对同一晶圆进行曝光，能够检测到镜头上不那么明显的缺陷，具有较高的敏感度；而且检测过程简单且易于实施。
本发明授权镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种镜头缺陷检测方法，其特征在于，用于检测光刻机的镜头是否存在缺陷；所述检测方法包括： 提供晶圆； 对所述晶圆分区域进行多次曝光，在所述多次曝光的过程中，至少采用两种不同的曝光能量；所述曝光能量包括非充分曝光能量； 在所述多次曝光后，根据所述晶圆上是否出现斑点判断所述镜头是否存在缺陷； 其中，所述晶圆包括阵列排布的多个曝光区域；所述曝光区域为包括一列芯片的区域； 所述多次曝光包括：对所述曝光区域逐一或逐列进行曝光； 所述镜头缺陷检测方法还包括： 在所述多次曝光后，若所述镜头同一部分曝光过的至少两个所述曝光区域上的相似位置均出现所述斑点，则所述镜头存在缺陷； 其中，多个所述曝光区域沿第一方向排布呈行，沿第二方向排布呈列，所述第一方向和所述第二方向相交；同一列所述曝光区域对应的所述曝光能量相同，且多列所述曝光区域对应的所述曝光能量沿所述第一方向逐渐增大。
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