上海微电子装备(集团)股份有限公司吴萍获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利运动台系统及光刻设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115248533B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110469861.4,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权运动台系统及光刻设备是由吴萍设计研发完成,并于2021-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本运动台系统及光刻设备在说明书摘要公布了:本发明提供一种运动台系统和一种光刻设备。所述运动台系统包括运动台和与运动台连接的位移测量装置,所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个光栅配合使用的读头;各个光栅具有入光面,至少两个所述光栅的入光面是非平行面,各个光栅沿着运动台的表面伸长,所述位移测量装置通过计算运动台在各个光栅的长度方向上的位移量以及在各个光栅的法线方向上的位移量,进而计算获得运动台在三个以上自由度的位置变化。该运动台系统利用至少两个光栅和对应的读头测量运动台在三个以上自由度的位置变化,有助于提高运动台系统的位置测量能力和模态。所述光刻设备包括上述运动台系统。
本发明授权运动台系统及光刻设备在权利要求书中公布了:1.一种运动台系统,其特征在于,包括运动台和与所述运动台连接的位移测量装置,所述位移测量装置包括至少两个光栅和与各个所述光栅配合使用的读头;所述光栅至少具有呈现为一维排列的多个衍射单元以及与所述多个衍射单元共面的入光面;其中,各个所述光栅沿着所述运动台的表面伸长而构成一维维度,至少两个所述光栅的入光面是非平行面,所述位移测量装置通过计算所述运动台在各个所述光栅的长度方向上的位移量以及在各个所述光栅的法线方向上的位移量,进而计算获得所述运动台在六个自由度的位置变化; 所述运动台位于第一正交坐标系,所述第一正交坐标系的坐标原点O为所述运动台的运动中心,所述第一正交坐标系包括相互正交的X轴、Y轴和Z轴;所述位移测量装置包括第一一维光栅、第二一维光栅、第三一维光栅以及分别与所述第一一维光栅、所述第二一维光栅、所述第三一维光栅配合使用的第一读头、第二读头以及第三读头;所述第一一维光栅、所述第二一维光栅和所述第三一维光栅的长度方向均平行于所述Y轴,所述第一一维光栅与所述第二一维光栅的入光面彼此相背且均与所述X轴垂直,所述第三一维光栅的入光面与所述Z轴垂直。
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