上海积塔半导体有限公司盛明珠获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利OPC修正方法、装置、电子设备及计算机存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115407604B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211195415.X，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权OPC修正方法、装置、电子设备及计算机存储介质是由盛明珠设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本OPC修正方法、装置、电子设备及计算机存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种OPC修正方法、装置、电子设备及计算机存储介质，应用于半导体集成电路制造技术领域，包括：步骤1：根据获取的版图数据和OPC修正对OPC覆盖层的覆盖原则，确定版图数据的OPC配方，OPC覆盖层覆盖在版图数据上的字符图形上；步骤2：根据OPC配方对版图数据完成OPC修正。通过覆盖原则对版图数据进行判断，然后根据版图数据与覆盖原则的符合情况确定具体的OPC全流程中的OPC配方，针对不同的OPC覆盖层的覆盖情况使用不同的OPC配方对版图数据进行OPC修正，在不影响原有的OPC修正流程的同时，提高OPC修正的效率，并且避免了通过常规OPC修正流程时，由于OPC覆盖层的覆盖不规范，导致的字符图形的边缘产生锯齿状等不规则图形的问题，提高OPC修正的效率。
本发明授权OPC修正方法、装置、电子设备及计算机存储介质在权利要求书中公布了：1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括： 步骤1：根据获取的版图数据和所述OPC修正对OPC覆盖层的覆盖原则，确定所述版图数据的OPC配方，所述OPC覆盖层覆盖在所述版图数据上的字符图形上； 其中，所述覆盖原则，包括第一原则和第二原则；所述第一原则表示所述OPC覆盖层对所述版图数据上的字符图形完全覆盖；所述第二原则表示在所述第一原则的基础上，所述OPC覆盖层的边缘与所述字符图形的边缘之间存在边缘距离； 判断所述版图数据的所述OPC覆盖层是否符合所述覆盖原则，根据版图数据的OPC覆盖层与覆盖原则的符合情况确定版图数据的OPC配方； 步骤2：根据所述OPC配方对所述版图数据完成OPC修正。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海积塔半导体有限公司，其通讯地址为：201208 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区云水路600号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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