杭州谱育科技发展有限公司宋浩获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州谱育科技发展有限公司申请的专利依次之迁电离源和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115497805B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211279383.1，技术领域涉及：H01J49/08；该发明授权依次之迁电离源和方法是由宋浩;曹天明;方晓磊;尹伊君;杨继伟;俞晓峰设计研发完成，并于2022-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本依次之迁电离源和方法在说明书摘要公布了：本发明提供了依次之迁电离源和方法，所述依次之迁电离源包括第一组磁铁和第一电子源，第一电子源设置在第一组磁铁形成的第一磁场中；还包括：腔体具有离子出口，内部被多个隔离件分隔为依次连通的多级腔室，泵连通所述腔体内部；隔离件具有允许离子通过的通孔，多个隔离件上的通孔的排列方向与所述第一磁场方向间是锐角或直角；第一电子源设置在第一级腔室内；第二电子源设置在第二级腔室内，且处于第二组磁铁形成的第二磁场中，多个隔离件上的通孔的排列方向与第一磁场方向间是锐角或直角；离子传输装置设置在所述腔体内；从样品进口进入所述第一级腔室内的样品的速度方向和所述排列方向间的夹角是零或锐角。本发明具有电离效率高等优点。
本发明授权依次之迁电离源和方法在权利要求书中公布了：1.依次之迁电离源，所述依次之迁电离源包括第一组磁铁和第一电子源，所述第一电子源设置在所述第一组磁铁形成的第一磁场中；其特征在于，所述依次之迁电离源还包括： 腔体和泵，所述腔体具有离子出口，内部被多个隔离件分隔为依次连通的多级腔室，所述泵连通所述腔体内部；所述隔离件具有允许离子通过的通孔，多个隔离件上的通孔的排列方向与所述第一磁场的方向间是锐角或直角；所述第一电子源设置在第一级腔室内； 第二电子源和第二组磁铁，所述第二电子源设置在第二级腔室内，且处于所述第二组磁铁形成的第二磁场中； 离子传输装置，所述离子传输装置设置在所述腔体内； 样品进口，从所述样品进口进入所述第一级腔室内的样品的速度方向和所述排列方向间的夹角是零或锐角。
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