ASML荷兰有限公司黄郊获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利确定衬底上的图案的部分的指标获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115516381B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180032210.7,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权确定衬底上的图案的部分的指标是由黄郊;郑羽南;赵谦;梁蛟;范永发;冯牧设计研发完成,并于2021-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本确定衬底上的图案的部分的指标在说明书摘要公布了:描述了用于确定衬底上的图案的一部分的一个或更多个特性指标的系统和方法。接收用于所述衬底上的图案的图案信息。所述衬底上的图案具有第一部分和第二部分。所述图案的所述第一部分404A、406B基于所述图案信息,例如利用几何区块掩模408、410而被阻挡400、402,使得所述图案的所述第二部分保持未被阻挡。确定所述图案的未被阻挡的第二部分的一个或更多个指标。在一些实施例中,所述图案的所述第一部分和所述第二部分对应于半导体光刻过程中的不同曝光。所述半导体光刻过程可以是多重图案化技术过程,诸如双重图案化过程、三重图案化过程或间隔双重图案化过程。
本发明授权确定衬底上的图案的部分的指标在权利要求书中公布了:1.一种在其上具有指令的非暂时性计算机可读介质,所述指令在由计算机执行时使得所述计算机: 接收衬底上的图案的图案信息,所述衬底上的图案具有第一部分和第二部分; 基于所述图案信息阻挡所述第一部分,使得所述第二部分保持未被阻挡;以及 确定未被阻挡的第二部分的一个或更多个指标,其中,所述一个或更多个指标包括临界尺寸和或边缘放置误差。
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