松下知识产权经营株式会社长谷山亮获国家专利权
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龙图腾网获悉松下知识产权经营株式会社申请的专利光束强度均匀化元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115698777B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180042660.4，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权光束强度均匀化元件是由长谷山亮;织田学;西山寿美;芦野淳设计研发完成，并于2021-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本光束强度均匀化元件在说明书摘要公布了：本公开提供一种光束强度均匀化元件，具备光学基体、配置在光学基体的表面的第1透镜阵列和配置在光学基体的背面的第2透镜阵列。第1透镜阵列具有沿着光学基体的表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元。多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成光学基体的表面的表面。第2透镜阵列具有沿着光学基体的背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元。第2模制透镜单元具有形成有沿着与第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成光学基体的背面的表面。该光束强度均匀化元件能够抑制干涉条纹的产生，并且能够降低成本。
本发明授权光束强度均匀化元件在权利要求书中公布了：1.一种光束强度均匀化元件，具备： 光学基体，具有彼此为相反侧的表面和背面； 第1透镜阵列，配置在所述光学基体的所述表面；和 第2透镜阵列，配置在所述光学基体的所述背面， 所述第1透镜阵列具有沿着所述光学基体的所述表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元， 所述多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成所述光学基体的所述表面的表面， 所述第2透镜阵列具有沿着所述光学基体的所述背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元， 所述第2模制透镜单元具有形成有沿着与所述第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成所述光学基体的所述背面的表面。
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