香港城市大学姚希获国家专利权
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龙图腾网获悉香港城市大学申请的专利一种ZIF-8/GO复合膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115722084B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111010333.9，技术领域涉及：B01D71/06；该发明授权一种ZIF-8/GO复合膜及其制备方法与应用是由姚希;吕东设计研发完成，并于2021-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ZIF-8/GO复合膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种ZIF‑8GO复合膜及其制备方法与应用，其中，所述ZIF‑8GO复合膜是将修饰试剂修饰的ZIF‑8GO纳米片均匀分散于水或甲醇后将所得抽滤液抽滤至聚合物膜基底或阳性氧化铝模板上，再经烘干制得；所述修饰试剂修饰的ZIF‑8GO纳米片是将ZIF‑8GO纳米片于空气气氛或者惰性气氛中煅烧后，再将煅烧后的ZIF‑8GO纳米片分散于第一溶剂中并加入修饰试剂后经化学修饰反应制得。本发明提供的ZIF‑8GO复合膜的表面性质，如表面电荷等可调，且易于组装成器件，在离子选择性传输等领域具有广泛的应用价值。
本发明授权一种ZIF-8/GO复合膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种修饰试剂修饰的用于离子选择性传输的ZIF-8GO纳米片，其特征在于，所述修饰试剂修饰的用于离子选择性传输的ZIF-8GO纳米片是将ZIF-8GO纳米片于空气气氛或者惰性气氛中煅烧后，再将煅烧后的ZIF-8GO纳米片分散于第一溶剂中并加入修饰试剂后经化学修饰反应制得； 其中，空气气氛中，所述煅烧的温度为200-450℃，时间为0.5-7h；惰性气氛中，所述煅烧的温度为300-600℃，时间为0.5-7h。
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