安波福技术有限公司蔡秀章获国家专利权
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龙图腾网获悉安波福技术有限公司申请的专利用于电磁响应模拟器的经修改的射线跟踪器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115902865B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211197356.X，技术领域涉及：G01S13/66；该发明授权用于电磁响应模拟器的经修改的射线跟踪器是由蔡秀章;B·F·坎普斯拉加;A·约费;M·赛佛设计研发完成，并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于电磁响应模拟器的经修改的射线跟踪器在说明书摘要公布了：本文档描述了用于电磁响应模拟器的经修改的射线跟踪器的技术和系统。接收电磁射线信息，包括起始点和方向。通过将电磁射线信息从环境的全局坐标系转换为潜在目标的局部坐标系，可以确定要被电磁射线击中的潜在目标。如果计算出潜在目标的面被射线击中，则潜在目标被电磁射线击中。在潜在目标的局部坐标系中执行的计算包括平行射线的简化大元素物理光学公式。如果确定潜在目标的面被击中，则可以计算与潜在目标相关的电磁响应。以此方式，可以近似出高效且准确的电磁响应模型。
本发明授权用于电磁响应模拟器的经修改的射线跟踪器在权利要求书中公布了：1.一种用于雷达模拟的计算机实现的方法，所述计算机实现的方法包括： 接收在包括多个潜在目标的环境中模拟的电磁射线的第一电磁射线信息，所述第一电磁射线信息包括所述电磁射线相对于所述环境的全局坐标系的起始点和方向； 确定所述多个潜在目标中最接近所述第一电磁射线信息的潜在目标； 基于所述潜在目标将所述第一电磁射线信息转换为第二电磁射线信息，所述第二电磁射线信息包括相对于所述潜在目标的局部坐标系的起始点和方向； 基于所述第二电磁射线信息和指示所述潜在目标的几何轮廓的预先计算的加速度数据结构，确定所述电磁射线是否击中所述潜在目标的面；以及 基于所述电磁射线是否击中所述潜在目标的面来确定是否计算所述潜在目标的电磁响应。
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