京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司程旭辉获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板以及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116209314B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111448688.6,技术领域涉及:H10K59/122;该发明授权显示基板以及显示装置是由程旭辉;李锡平;朱春辉;张波;王大吉;沙一鸣;张祎杨;于汇洋;唐攀登;卓永;郭晓亮;王振;董中飞;蒋冬华;赵吾阳;袁洪光;宋亮;张微;尚庭华;杨国波;秦成杰;陈善韬;杨妮;龙跃;王本莲;黄炜赟设计研发完成,并于2021-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板以及显示装置在说明书摘要公布了:一种显示基板以及显示装置。该显示基板包括衬底基板和多个子像素,子像素包括发光元件,发光元件包括发光功能层,发光功能层包括多个膜层。显示基板还包括隔离结构,相邻子像素之间设置有隔离结构,隔离结构包括层叠设置的第一子隔离结构和第二子隔离结构,第一子隔离结构位于第二子隔离结构与衬底基板之间,第一子隔离结构的尺寸小于第二子隔离结构的尺寸以使第二子隔离结构包括突出的部分;或者,第一子隔离结构的侧表面的坡度角大于60度且小于120度,和或,第二子隔离结构的侧表面的坡度角大于60度且小于120度;多个膜层中的至少一层在隔离结构处断开。发光功能层的至少一层在隔离结构处断开有利于降低相邻子像素之间产生串扰的几率。
本发明授权显示基板以及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,包括: 衬底基板,至少包括第一显示区域; 多个子像素,位于所述衬底基板上的第一显示区域,至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件,所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极,所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间,所述发光功能层包括多个膜层; 像素限定图案,至少位于所述第一显示区域的所述像素限定图案包括多个第一开口, 其中,所述显示基板还包括隔离结构,相邻子像素之间设置有至少一个隔离结构,所述隔离结构包括层叠设置的第一子隔离结构和第二子隔离结构,所述第一子隔离结构位于所述第二子隔离结构与所述衬底基板之间; 沿相邻子像素的排列方向,位于该相邻子像素之间的所述隔离结构中所述第一子隔离结构的尺寸小于所述第二子隔离结构的尺寸以使所述第二子隔离结构包括相对于所述第一子隔离结构的边缘突出的部分;或者,所述第一子隔离结构的至少部分侧表面与平行于所述第一子隔离结构和所述第二子隔离结构的接触面的平面的坡度角大于60度且小于120度; 所述多个膜层中的至少一层在所述隔离结构处断开; 所述隔离结构位于相邻且不同颜色子像素之间,所述第二子隔离结构的材料包括有机材料,所述第二子隔离结构远离所述衬底基板一侧的表面为弯曲表面,且所述弯曲表面朝向所述第一子隔离结构弯曲,所述发光功能层包括层叠设置的第一发光层、电荷产生层和第二发光层,所述电荷产生层位于所述第一发光层与所述第二发光层之间,且所述电荷产生层在所述隔离结构处断开,所述第二电极为整层连续设置的电极,所述第一子隔离结构的一层膜层与所述第一电极的一层电极层同层设置且材料相同,所述第二子隔离结构为所述像素限定图案的一部分。
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