中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司张戈获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116263558B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111533657.0，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质是由张戈;严中稳设计研发完成，并于2021-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供主图形；根据相邻所述主图形的间距设定禁止边规则；在所述主图形的侧部添加辅助图形，其中，基于禁止边规则获得在所述主图形的侧部添加的辅助图形的数量。本发明有利于根据主图形周围实际的环境情况来添加辅助图形，进而完善所述光学邻近修正处理的处理结果。
本发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供主图形；其中，提供所述主图形的步骤中，提供版图层，包括所述主图形； 根据相邻所述主图形的间距设定禁止边规则；其中，根据相邻主图形的间距设定禁止边规则的步骤包括：获取相邻所述主图形的间距，并选取任一所述主图形中与相邻另一所述主图形的间距小于可放置辅助图形最小间距的边作为禁止边，剩余边作为可行边，其中，所述可放置辅助图形最小间距为辅助图形的最小宽度与两倍的相邻主图形与辅助图形的最小间距之和；获取每个所述主图形的可行边的数量； 在所述主图形的侧部添加辅助图形，其中，基于禁止边规则获得在所述主图形的侧部添加的辅助图形的数量；其中，在所述主图形的侧部添加辅助图形的步骤包括：在所述版图层中，在所述主图形的可行边的侧部添加辅助图形，所述辅助图形包括最靠近所述可行边的主辅助图形，其中，按照每个所述主图形的可行边的数量递增的顺序，依次在所述主图形的可行边的侧部添加所述主辅助图形。
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