苏州安洁科技股份有限公司王春生获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州安洁科技股份有限公司申请的专利一种模切FDC铜箔的排废方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116442323B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310345819.0，技术领域涉及：B26F1/38；该发明授权一种模切FDC铜箔的排废方法是由王春生;李永泉;翟留永设计研发完成，并于2023-04-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种模切FDC铜箔的排废方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种模切FDC铜箔的排废方法，其使得在成型铜箔的下方区域设置有离型膜，使得铜箔和过程保护膜的剥离力变小，从而使得模切后的铜箔废料在排废时稳定可靠排废。根据产品铜箔的形态，在模切铜箔前，在铜箔和底部保护膜之间设置离型膜，离型膜完全覆盖住铜箔形态，且向外扩展一设定距离，待模切形成废料的铜箔的大部分面域仍旧覆盖于底部保护膜上，通过铜箔刀模向下冲切完成对于铜箔的冲切，之后通过保护膜将铜箔废料排废。
本发明授权一种模切FDC铜箔的排废方法在权利要求书中公布了：1.一种模切FDC铜箔的排废方法，其特征在于：根据产品铜箔的形态，在模切铜箔前，在铜箔和底部保护膜之间设置离型膜，离型膜完全覆盖住铜箔形态，且向外扩展一设定距离，待模切形成废料的铜箔的大部分面域仍旧覆盖于底部保护膜上，通过铜箔刀模向下冲切完成对于铜箔的冲切，之后通过保护膜将铜箔废料排废； 所述离型膜复合于底部保护膜上向前输送，之后被仿形于铜箔成型形态的遮蔽区刀模半切，使得离型膜完全覆盖住最终成型的铜箔形态、且向外扩展设定距离； 之后通过第一中间保护膜将冲切后的离型膜废料排除出产线，然后再将铜箔压合在离型膜、底部保护膜的表面上，其使得铜箔的最终成型区域的底部压合在离型膜上； 之后通过铜箔刀模完成对于铜箔的模切，之后通过第二中间保护膜完成对于铜箔废料的排废作业； 所述离型膜所形成的遮蔽区为最终成型的铜箔的边界向外扩展0.4mm～0.8mm。
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