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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利一种掩模版组件和蒸镀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117328016B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311284032.4，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种掩模版组件和蒸镀装置是由刘浩;王宇钊;沈阔;关新兴;曾琪皓设计研发完成，并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模版组件和蒸镀装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模版组件和蒸镀装置，掩模版组件包括支撑掩膜板和多个金属掩膜板，支撑掩膜板包括中部为中空区的外框架、沿第一方向跨设于中空区且沿第二方向间隔地设置在外框架上的多个第一支撑板以及沿第二方向跨设于中空区且沿第一方向间隔设置在外框架上的多个第二支撑板，第一方向与第二方向交叉；多个金属掩膜板沿第一方向跨设于中空区且沿第二方向并列设置在外框架上，金属掩膜板沿第一方向的两侧与外框架和或第一支撑板相对应，非蒸镀区与外框架和或第二支撑板相对应；其中，至少第一支撑板上与金属掩膜板沿第一方向的两侧相对应的区域设有第一磁力吸附区，以将金属掩膜板吸附在第一支撑板上。

本发明授权一种掩模版组件和蒸镀装置在权利要求书中公布了：1.一种掩模版组件，其特征在于，所述掩模版组件包括： 支撑掩膜板，所述支撑掩膜板包括中部为中空区的外框架、沿第一方向跨设于所述中空区且沿第二方向间隔地设置在所述外框架上的多个第一支撑板以及沿所述第二方向跨设于所述中空区且沿所述第一方向间隔设置在所述外框架上的多个第二支撑板，所述第一方向与所述第二方向垂直；和， 多个金属掩膜板，多个所述金属掩膜板沿所述第一方向跨设于所述中空区且沿所述第二方向并列设置在所述外框架上，所述金属掩膜板上开设有多个镂空的蒸镀区和环绕所述蒸镀区的非蒸镀区，所述金属掩膜板沿所述第一方向的两侧与所述外框架和或所述第一支撑板相对应，所述非蒸镀区与所述外框架、所述第一支撑板以及所述第二支撑板中的至少一处相对应； 其中，至少所述第一支撑板上与所述金属掩膜板沿所述第一方向的两侧相对应的区域设有第一磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述第一支撑板上，在所述第二方向上使所述金属掩膜板的非蒸镀区被所述第一磁力吸附区吸附展平； 所述外框架上与所述金属掩膜板沿所述第一方向的两侧相对应的区域设有所述第一磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述外框架上； 至少所述第二支撑板上与所述非蒸镀区沿第二方向相对应的区域设有第二磁力吸附区，以将所述金属掩膜板吸附在所述第二支撑板上，所述第二磁力吸附区的磁力强度小于所述第一磁力吸附区的磁力强度； 所述第二磁力吸附区的磁力强度由邻近所述蒸镀区向远离所述蒸镀区的方向扩大； 所述外框架、所述第一支撑板以及所述第二支撑板中的至少一处与所述蒸镀区的边角相邻近的区域设有第三磁力吸附区，所述第三磁力吸附区的形状与所述蒸镀区的所述边角结构相匹配； 所述第三磁力吸附区设有多个第三磁力吸附块，多个所述第三磁力吸附块呈扇形地排布在所述第三磁力吸附区。

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