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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117597782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280001757.5，技术领域涉及：H10H29/49；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置是由张粲;赵欣欣;丛宁;玄明花;陈小川设计研发完成，并于2022-06-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本阵列基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底；驱动单元，设置在衬底的一侧；发光单元，包括至少一个发光子单元，设置在衬底背离所述驱动单元的一侧，发光单元通过贯穿衬底的走线和驱动单元电连接，且各发光子单元的至少部分区域与衬底直接接触。该阵列基板中的发光单元和驱动单元分别位于衬底的两侧，且发光子单元的至少部分区域与衬底直接接触。在制备该阵列基板的过程中，能够直接将发光单元制备在衬底上，避免采用巨量转移技术造成的制备效率降低的问题，也避免了发光单元与驱动单元在键合技术之后的工艺中对驱动单元造成的损伤，降低了制备工艺难度，缩短了制备周期，提高阵列基板的良率，降低了成本。

本发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其中，包括： 衬底； 驱动单元，设置在所述衬底的一侧； 发光单元，包括至少一个发光子单元，设置在所述衬底背离所述驱动单元的一侧，所述发光单元通过贯穿所述衬底的走线和所述驱动单元电连接，且各所述发光子单元的至少部分区域与所述衬底直接接触； 所述阵列基板包括第一走线和第二走线，所述发光子单元包括外延层；所述第一走线和所述第二走线分别与所述外延层电连接，且所述第一走线和所述第二走线分别与所述驱动单元电连接； 其中，所述外延层的至少部分区域与所述衬底直接接触； 所述第一走线和所述第二走线中至少一个走线的至少部分区域穿过所述衬底且延伸至所述衬底上设置所述驱动单元的一侧，并与所述驱动单元电连接； 所述发光单元包括一个所述发光子单元，所述衬底具有第一通孔和第二通孔，所述第一走线的至少部分区域位于所述第一通孔中，所述第二走线的至少部分区域位于所述第二通孔中； 所述第一走线位于所述第一通孔中，所述第二走线的一部分区域位于所述外延层远离所述衬底的一侧，所述第二走线的另一部分区域位于所述第二通孔中； 所述发光子单元包括第一电极和第二电极，所述第一走线的部分区域作为所述第一电极，所述第二电极位于所述外延层远离所述衬底的一侧，所述第二电极与所述第二走线连接。

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