买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉深圳大学申请的专利热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118348742B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410622240.9，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统是由杨高;龚峰;李健志设计研发完成，并于2024-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统，方法包括：获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据；根据形状误差数据和折射率变化数据，对模具几何模型进行补偿；判断第二微纳光学元件的形状精度是否满足预设的形状精度要求，以及波前像差是否满足预设的波前像差要求；第二微纳光学元件是根据补偿后的模具几何模型得到的；若不满足预设的形状精度要求和或预设的波前像差要求，则再次对模具几何模型进行补偿，直至第二微纳光学元件的形状精度和波前像差满足预设的形状精度要求和预设的波前像差要求。本申请能降低形状误差和折射率变化对第二微纳光学元件的影响，降低了模具制造成本。

本发明授权热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法，其特征在于，包括： 获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据； 根据所述形状误差数据和折射率变化数据，对模具几何模型进行补偿； 判断第二微纳光学元件的形状精度是否满足预设的形状精度要求，以及波前像差是否满足预设的波前像差要求；所述第二微纳光学元件是根据补偿后的所述模具几何模型得到的； 若不满足预设的形状精度要求和或预设的波前像差要求，则再次对所述模具几何模型进行补偿，直至所述第二微纳光学元件的形状精度和波前像差满足预设的形状精度要求和预设的波前像差要求； 所述获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据，包括： 确定最佳热压印工艺参数组合； 根据数学模型结合所述最佳热压印工艺参数组合，分别预测第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的密度变化和收缩量； 根据所述密度变化预测折射率变化，得到所述第一微纳光学元件的折射率变化数据； 根据所述收缩量，得到所述第一微纳光学元件的形状误差数据； 所述确定最佳热压印工艺参数组合，包括： 根据热压印工艺参数对优化目标的重要性进行因子筛选实验，筛选出重要热压印工艺参数；所述热压印工艺参数包括：加热速率、热压温度、保温时间、热压压力、热压时间、保压时间和退火速率；所述优化目标包括：微纳结构的填充率、翘曲变形、板厚和残余应力； 建立所述重要热压印工艺参数与所述优化目标之间的回归模型； 根据所述回归模型，确定最佳热压印工艺参数组合； 所述根据所述回归模型，确定最佳热压印工艺参数组合，包括： 基于所述回归模型和所述优化目标，为NSGA-II优化算法定义多目标优化函数； 根据所述NSGA-II优化算的多目标优化函数，确定优化解集；所述优化解集中包括多个优化参数组合，所述优化参数组合反映了所述重要热压印工艺参数及其对应的优化目标； 评估第一微纳光学元件的表面质量，将表面质量最佳的所述第一微纳光学元件所对应的所述优化参数组合确定为最佳热压印工艺参数组合；其中，所述第一微纳光学元件是根据所述优化参数组合进行第二热压印成型实验得到的。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳大学，其通讯地址为：518000 广东省深圳市南山区粤海街道南海大道3688号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。