盛普锐斯科技(无锡)有限公司毛庆全获国家专利权
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龙图腾网获悉盛普锐斯科技(无锡)有限公司申请的专利一种X射线源先进复合靶材及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119890006B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510013641.9，技术领域涉及：H01J9/14；该发明授权一种X射线源先进复合靶材及其制备方法是由毛庆全;杨沛设计研发完成，并于2025-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种X射线源先进复合靶材及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及技术领域，具体涉及一种X射线源先进复合靶材及其制备方法，包括：S1、选取的基材和基材压板，并对基材及基材压板进行清洗处理，之后，进行真空烘干处理；S2、将真空烘干后的基材放置在专用工装上，采用溅射方式在基材的内侧面上溅镀一层内薄膜，再采用溅射方式或化学气相沉积工艺在基材的外侧面上形成一层外薄膜，得到镀膜后的基材；S3、将镀膜后的基材与真空烘干后的基材压板之间进行真空钎焊连接，钎焊温度控制在450‑550℃范围内，得到复合靶材。该复合靶材具有优异的性能，能够很好的兼顾了匀热与散热效率，将焦点处集中的热量向X、Y方向传导扩散；解决了现有技术中存在的现有的靶材匀热性能差、散热效果不好等问题。
本发明授权一种X射线源先进复合靶材及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种X射线源先进复合靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、选取内侧设置有凹槽的基材和外侧面设置呈鳍片状结构的基材压板，并对基材及基材压板进行清洗处理，之后，进行真空烘干处理；所述基材、所述基材压板均由铝金属材质或者铝合金材质制备而成； S2、将真空烘干后的基材放置在专用工装上，采用溅射方式在基材的内侧面上溅镀一层内薄膜，之后，再采用溅射方式或者化学气相沉积工艺在基材的外侧面上形成一层外薄膜，得到镀膜后的基材；所述内薄膜为纯钨膜；所述外薄膜为石墨膜或者石墨烯膜；所述内薄膜与所述基材之间还设置有过渡层；所述过渡层的厚度为8-12nm；所述过渡层的材质为铜金属； S3、将镀膜后的基材与真空烘干后的基材压板之间进行真空钎焊连接，钎焊温度控制在450-550℃范围内，得到复合靶材。
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