西安电子科技大学广州研究院;西安电子科技大学滕祥意获国家专利权
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龙图腾网获悉西安电子科技大学广州研究院;西安电子科技大学申请的专利一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120255260B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510325424.3,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法是由滕祥意;莫世冰;刘静;钟明好设计研发完成,并于2025-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法,建立高阶的多变形相互作用网络以捕获掩膜上的全局光学信息;通过在掩膜上多边形的拐角处建立光学直径范围内的相互作用图,以捕获线段间局部的光学邻近交互;通过建立边缘放置误差程度的序列信息,可以捕获多边形轮廓的整体变化趋势,包括偏差尺度和方向;以分割线段为基本单元,保证了掩膜的可制造性,并且提高了掩膜优化过程的时间效率;从而保证了可制造性和时效性。
本发明授权一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法在权利要求书中公布了:1.一种用于光刻掩膜校正的多尺度信息融合方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、提取掩膜上的多边形的边缘,并将其进行划分为线段,得到线段单元,并保存线段单元的信息; S2、提取掩膜上的多边形,将多边形及多边形之间的有向边进行转换,得到超边和边节点,并构建超图,使用双重超图注意力网络对超图进行嵌入学习,得到全局光学信息; 具体包括:提取掩膜上的多边形的曼哈顿矩形的几何中心作为中心节点,将每个多边形的中心节点转换为超边,将多边形与多边形之间的有向边转换为边节点;边节点的初始特征包括:将多边形划分得到的线段的总数量,多边形之间的距离,以及多边形与多边形之间方向的编码组成;将转换后的超边、边节点以及边节点的初始特征构成超图GH={V,E}; 其中V={v1,v2,……vn},表示由多边形之间的有向边转换成的边节点的集合,E={e1,e2,……en},表示由多边形转换成的超边的集合,边节点的初始特征为,其中R表示实数域,n是矩阵的行数,d是矩阵的列数; 则超图的拓扑结构通过关联矩阵表示为: ; 其中,vi表示第i个节点vi,ej表示第j个超边ej,即如果节点ej属于超边ej,则为1,否则为0; 将划分的多边形的线段通过其中心的节点表示,以多边形拐角处的线段的节点为中心,构建多边形拐角处的线段相互作用图,并使用卷积神经网络对多边形拐角处的线段相互作用图进行嵌入学习,得到光学局部领近信息; 通过对初始掩膜进行光刻模拟,构建误差序列,并代入序列模型进行学习,得到多边形轮廓变化信息; S3、使用多层感知机进行信息整合,预测多边形每一条线段的移动距离,并进行取整规范化处理; S4、将运动后的线段的集合重新转化为掩膜的图案; S5、对掩膜的图案进行光刻模拟,并根据损失函数进行误差计算,形成反向传播的梯度。
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