买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉河南微米光学科技有限公司申请的专利一种晶体的抛光控制方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120755729B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510882979.8，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权一种晶体的抛光控制方法及系统是由王玉洁;朱逢旭;范静文;牛丽娜设计研发完成，并于2025-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶体的抛光控制方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶体的抛光控制方法及系统，属于晶体加工控制技术领域，其方法具体包括：获取待抛光晶体表面的三维轮廓数据，构建区域特征图谱，基于所述区域特征图谱生成区域响应矩阵，所述区域特征图谱基于对待抛光晶体表面的区域分级标记结果构建，基于区域响应矩阵，生成待抛光晶体的抛光路径，构建区域自适应多参数协同控制模型，动态调整抛光时抛光路径中的抛光参数；本申请在处理精度、边缘一致性和缺陷去除效率方面具有显著提升，有效解决了传统抛光过程中边缘处理能力不足和缺陷区域响应迟滞的问题，显著提高了晶体表面的整体加工质量。

本发明授权一种晶体的抛光控制方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种晶体的抛光控制方法，其特征在于，包括： 获取待抛光晶体表面的三维轮廓数据； 构建区域特征图谱，基于所述区域特征图谱生成区域响应矩阵，所述区域特征图谱基于对待抛光晶体表面的区域分级标记结果构建； 基于区域响应矩阵，生成待抛光晶体的抛光路径； 构建区域自适应多参数协同控制模型，动态调整抛光时抛光路径中的抛光参数； 所述构建区域特征图谱，基于所述区域特征图谱生成区域响应矩阵，包括： 识别待抛光晶体表面的边缘区域和缺陷区域，并对所述边缘区域和缺陷区域进行分级标记； 基于分级标记结果，构建区域特征图谱； 基于所述区域特征图谱生成区域响应矩阵，其中所述区域响应矩阵对待抛光晶体表面的边缘区域施加响应权重增益系数； 所述基于分级标记结果，构建区域特征图谱，包括： 将识别得到的边缘区域和缺陷区域按空间分布及属性类型进行编号，赋予唯一的区域索引号； 提取边缘区域和缺陷区域的特征参数，包括：空间位置信息、面积大小与边界轮廓、局部高度、曲率分布、法向量变化率、灰度梯度和缺陷形态参数； 将提取的特征按预设顺序组成区域特征向量，所述区域特征向量为定长浮点型数据； 将边缘区域和缺陷区域的区域特征向量按区域索引号进行排列，构建区域特征图谱。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人河南微米光学科技有限公司，其通讯地址为：465350 河南省信阳市商城县城关镇轻工业园区100号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。