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上海季丰技术有限公司;深圳季丰检测技术有限公司罗晨获国家专利权

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龙图腾网获悉上海季丰技术有限公司;深圳季丰检测技术有限公司申请的专利一种测量栅氧化层厚度的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121089636B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511622831.7,技术领域涉及:G01B15/02;该发明授权一种测量栅氧化层厚度的方法是由罗晨;郑朝晖设计研发完成,并于2025-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。

一种测量栅氧化层厚度的方法在说明书摘要公布了:本申请涉及半导体技术领域,提供了一种测量栅氧化层厚度的方法。该方法包括:制备超薄TEM样品,超薄TEM样品从下往上依次包括衬底层、栅氧化层和其他材料层;将超薄TEM样品置于TEM镜检区域并将光圈放到最大,在低倍率下调整超薄TEM样品的倾转角度直至衬底层的衬度变黑,以调正晶带轴,之后在保持光圈最大的情况下调整放大倍率和微调焦距直至能够清晰观察到栅氧化层,对超薄TEM样品进行拍照,得到TEM图像;根据TEM图像测量栅氧化层的厚度。本申请不仅可降低超薄TEM样品发生辐照损伤或二次变形的风险,从而提高超薄TEM样品的栅氧化层的测量精度和准确性,而且还可节省拍照时间,有利于提升测量效率,降低测量成本。

本发明授权一种测量栅氧化层厚度的方法在权利要求书中公布了:1.一种测量栅氧化层厚度的方法,其特征在于,包括: 制备超薄TEM样品,所述超薄TEM样品从下往上依次包括衬底层、栅氧化层和其他材料层; 将所述超薄TEM样品置于TEM镜检区域并将光圈放到最大,在低倍率下调整所述超薄TEM样品的倾转角度直至所述衬底层的衬度变黑,以调正晶带轴,之后在保持光圈最大的情况下调整放大倍率和微调焦距直至能够清晰观察到所述栅氧化层,对所述超薄TEM样品进行拍照,得到TEM图像;所述倾转角度包括α角和β角;所述α角的调整范围为第一基准角度±25°,所述β角的调整范围为第二基准角度±25°; 根据所述TEM图像测量所述栅氧化层的厚度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海季丰技术有限公司;深圳季丰检测技术有限公司,其通讯地址为:200120 上海市浦东新区沪南路2218号西楼18层;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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