光驰科技(上海)有限公司李兆兴获国家专利权
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龙图腾网获悉光驰科技(上海)有限公司申请的专利磁控溅射阴极系统及镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223852747U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520341858.8，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型磁控溅射阴极系统及镀膜设备是由李兆兴;余海春;王冲设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁控溅射阴极系统及镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，公开了一种磁控溅射阴极系统及镀膜设备，磁体推杆的第一端与磁体连接，同时至少部分的磁体推杆穿过磁体固定杆，保持磁体的角度相对静止；推杆导向轨道用于接触磁体推杆的第二端，旋转模块驱动推杆导向轨道转动预设角度，磁体推杆接触并随着推杆导向轨道的轮廓形状相对磁体固定杆移动，用于改变磁体和靶材的间距。在不破除真空状态与不拆除靶材的情况下，实现对磁体与靶材间距的调节，从而实现对靶材径向磁场强度分布的调节；消除靶材厚度降低带来的表面磁场强度变化，进而消除对溅射速率与镀膜质量带来的影响。
本实用新型磁控溅射阴极系统及镀膜设备在权利要求书中公布了：1.磁控溅射阴极系统，其特征在于，包括： 靶材模块，所述靶材模块包括靶材1； 磁体模块，所述磁体模块包括磁体固定杆2、磁体5和调节组件，所述调节组件包括磁体推杆13和推杆导向轨道14，所述磁体推杆13的第一端与所述磁体5连接，所述推杆导向轨道14用于接触所述磁体推杆13的第二端；至少部分的所述磁体推杆13穿过所述磁体固定杆2； 旋转模块7，所述旋转模块7能驱动所述推杆导向轨道14转动预设角度，以使所述磁体推杆13相对所述磁体固定杆2移动，用于改变所述磁体5和所述靶材1的间距。
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