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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和气体导入方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112863987B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011309494.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置和气体导入方法是由宇田真代;鹤田学;丰田启吾设计研发完成，并于2020-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理装置和气体导入方法在说明书摘要公布了：本发明提供等离子体处理装置和气体导入方法。自腔室的侧壁向等离子体处理空间以不同的角度导入气体。该等离子体处理装置包括：腔室，具有侧壁和由所述侧壁包围的等离子体处理空间；第1侧部气体导入管线和第2侧部气体导入管线，构成为自所述侧壁向所述等离子体处理空间导入气体，所述第1侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第1侧部气体喷射器，所述多个第1侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以第1方向导入气体，所述第2侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第2侧部气体喷射器，所述多个第2侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以与所述第1方向不同的第2方向导入气体。

本发明授权等离子体处理装置和气体导入方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其中， 该等离子体处理装置包括： 腔室，其具有侧壁和由所述侧壁包围的等离子体处理空间； 第1侧部气体导入管线和第2侧部气体导入管线，该第1侧部气体导入管线和第2侧部气体导入管线构成为自所述侧壁向所述等离子体处理空间导入气体；以及 气体供给部，其与所述第1侧部气体导入管线和所述第2侧部气体导入管线双方流体连通， 其中，所述第1侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第1侧部气体喷射器，所述多个第1侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以第1方向导入气体， 所述第2侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第2侧部气体喷射器，所述多个第2侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以与所述第1方向不同的第2方向导入气体， 所述第1方向为倾斜向上，所述第2方向为倾斜向下， 所述气体供给部具有第1流量分配部，该第1流量分配部构成为控制针对所述第1侧部气体导入管线和所述第2侧部气体导入管线的气体供给比率， 所述第1侧部气体导入管线具有与所述多个第1侧部气体喷射器分别对应的多个第1调节器，所述多个第1调节器分别连接在对应的第1侧部气体喷射器与所述第1流量分配部之间，构成为将进行了加压的气体自对应的第1侧部气体喷射器向所述等离子体处理空间导入， 所述第2侧部气体导入管线具有与所述多个第2侧部气体喷射器分别对应的多个第2调节器，所述多个第2调节器分别连接在对应的第2侧部气体喷射器与所述第1流量分配部之间，构成为将进行了加压的气体自对应的第2侧部气体喷射器向所述等离子体处理空间导入， 所述等离子体处理装置具有中央气体喷射器，该中央气体喷射器配置于所述腔室的顶壁中央， 所述中央气体喷射器与所述气体供给部连接， 所述气体供给部具有第2流量分配部，该第2流量分配部构成为控制针对所述中央气体喷射器和所述第1流量分配部的气体供给比率， 所述等离子体处理装置还具备控制部，所述控制部进行控制，以执行以下工序： a控制向所述第1侧部气体导入管线和所述第2侧部气体导入管线供给的气体的量； b分别自所述多个第1侧部气体喷射器向所述等离子体处理空间内以第1方向导入气体；以及 c分别自所述多个第2侧部气体喷射器向所述等离子体处理空间内以第2方向导入气体， 其中，工序b和工序c同时进行。

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