上海华力集成电路制造有限公司张月雨获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利OPC修正中添加散射条的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114660889B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210187297.1，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权OPC修正中添加散射条的方法是由张月雨;汪悦设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本OPC修正中添加散射条的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种OPC修正中添加散射条的方法，包括：步骤一、在版图中添加第一种类型散射条。步骤二、在版图中选择会使第一种类型散射条产生成像的热点区域。步骤三、在热点区域中，和第一种类型散射条的邻近图形边界相对应的另一侧区域设置靠近邻近图形边界的第二种类型散射条，第二和第一种类型散射条的类型相反，通过调节第二种类型散射条的宽度以及和邻近图形边界的间距来消除第一种类型散射条的成像。本发明能在易发生散射条成像的热点区域保留散射条并能避免发生散射条成像，同时不需要改变图形尺寸。
本发明授权OPC修正中添加散射条的方法在权利要求书中公布了：1.一种OPC修正中添加散射条的方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤一、在版图中添加第一种类型散射条； 步骤二、在所述版图中选择会使所述第一种类型散射条产生成像的热点区域； 步骤三、在所述热点区域中，和所述第一种类型散射条的邻近图形边界相对应的另一侧区域设置靠近所述邻近图形边界的第二种类型散射条，所述第二种类型散射条和所述第一种类型散射条的类型相反，通过调节所述第二种类型散射条的宽度以及和所述邻近图形边界的间距来消除所述第一种类型散射条的成像； 所述第一种类型散射条为正型散射条，所述第二种类型散射条为负型散射条，所述正型散射条用于添加在图形的外部，所述负型散射条用于添加在图形的内部； 或者，所述第一种类型散射条为负型散射条，所述第二种类型散射条为正型散射条。
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