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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利一种光学邻近校正方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121232545B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511769302.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光学邻近校正方法及装置是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学邻近校正方法及装置在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收目标晶片图案；依据预设的网格尺寸根据所述目标晶片图案确定目标晶片网格图像；将所述目标晶片图案作为当前掩膜图案；将所述当前掩膜图案，输入预训练的三维光学邻近校正模型，并辅以网格尺寸，得到仿真晶片网格图像；计算各个所述边缘段对应的边缘高度误差；判断所述边缘高度误差是否超出预设的调整阈值；当所述边缘高度误差超出预设的调整阈值时，根据所述边缘高度误差，在对应的法线方向上调整各个所述边缘段的位置，得到更新后的当前掩膜图案；循环步骤四至步骤七，直至所述边缘高度误差不超出所述调整阈值。本发明减少了光刻胶高度损失等缺陷，提升成品良率。

本发明授权一种光学邻近校正方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括： 步骤一，接收目标晶片图案；所述目标晶片图案由多个边缘段围成； 步骤二，依据预设的网格尺寸根据所述目标晶片图案确定目标晶片网格图像；所述目标晶片网格图像中的每个网格均记录对应的高度值； 步骤三，将所述目标晶片图案作为当前掩膜图案； 步骤四，将所述当前掩膜图案，输入预训练的三维光学邻近校正模型，并辅以所述网格尺寸，得到仿真晶片网格图像；所述仿真晶片网格图像中的每个网格均记录对应的高度值； 步骤五，计算所述仿真晶片网格图像与所述目标晶片网格图像相比，各个所述边缘段对应的边缘高度误差； 步骤六，判断所述边缘高度误差是否超出预设的调整阈值； 步骤七，当所述边缘高度误差超出预设的调整阈值时，根据所述边缘高度误差，在对应的法线方向上调整各个所述边缘段的位置，得到更新后的当前掩膜图案； 步骤八，循环步骤四至步骤七，直至所述边缘高度误差不超出所述调整阈值，将所述当前掩膜图案输出为目标掩膜图案。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：311113 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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