深圳市创飞芯源半导体有限公司杨旭刚获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市创飞芯源半导体有限公司申请的专利一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223885554U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520504649.0,技术领域涉及:H10D64/27;该实用新型一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件是由杨旭刚;霍颖颖设计研发完成,并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件在说明书摘要公布了:本实用新型适用于半导体技术领域,提供了一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件,包括衬底;设于衬底上方的扩展层;扩展层上设置有有源操作区及终端结构区;有源操作区包括P型区、N型区及栅极结构;P型区和N型区呈相间交替排列,共同构成MOSFET的源极结构;本实用新型显著增强了器件的电场调控能力,减少了电场突变,从而大幅提高了器件的击穿电压和稳定性;而且,通过金属场板、钝化层等多层次的保护措施,以及多晶硅栅极结构与金属互连层的高效协同工作,确保了器件免受外界环境影响的同时,实现了对栅极信号的快速响应和精确调控,满足了复杂应用场景下对电流快速开关和精确调节的需求。
本实用新型一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件在权利要求书中公布了:1.一种带有悬浮栅结终端的MOSFET器件,其特征在于,包括: 衬底1; 设于所述衬底1上方的扩展层2; 所述扩展层2上设置有有源操作区3及终端结构区4; 所述有源操作区3包括P型区5、N型区6及栅极结构7; 所述P型区5和N型区6呈相间交替排列,共同构成MOSFET的源极结构; 所述栅极结构7位于P型区5上方,所述栅极结构7通过栅极氧化层8与P型区5实现隔离; 所述终端结构区4包括悬浮栅结构9及调控板10; 所述悬浮栅结构9呈环形分布,并通过绝缘层11与所述调控板10相隔,所述调控板10通过金属互连层与悬浮栅结构9电气连接; 所述扩展层2的外表面依次设置有金属场板12及钝化层13。
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