超威半导体公司马克西姆·V·卡扎科夫获国家专利权
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龙图腾网获悉超威半导体公司申请的专利常驻图描述符获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113287145B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080007743.5，技术领域涉及：G06T1/20；该发明授权常驻图描述符是由马克西姆·V·卡扎科夫;马克·福勒设计研发完成，并于2020-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本常驻图描述符在说明书摘要公布了：处理器接收访问部分常驻纹理PRT资源的一个或多个级别的请求。所述级别表示不同细节级别LOD下的纹理并且所述请求包括指示所述纹理中的位置的标准化坐标。所述处理器访问纹理描述符，其包括所述级别中的第一级别的维度以及参考级别和一个或多个第二级别之间的一个或多个偏移，所述一个或多个第二级别与指示常驻在所述PRT资源中的纹素的一个或多个常驻图相关联。所述处理器基于所述偏移将所述标准化坐标转换为所述一个或多个常驻图中的纹素坐标并且响应于所述请求基于所述纹素坐标访问所述一个或多个常驻图以确定由所述标准化坐标指示的纹理数据是否常驻在所述PRT资源中。
本发明授权常驻图描述符在权利要求书中公布了：1.一种生成和存储纹理描述符的方法，其包括： 将访问部分常驻纹理PRT资源的请求的标准化坐标转换为基于纹理描述符的所述PRT中的纹素坐标，所述部分常驻纹理PRT资源包括表示不同细节级别LOD下的纹理的多个级别，所述纹理描述符包括表示所述多个级别的第一级别的维度和指示常驻在所述PRT资源中的纹素的常驻图的信息，其中所述纹理描述符还包括表示所述多个级别的所述第一级别和第二级别之间的偏移的信息；以及 基于所述纹素坐标和所述常驻图访问所述PRT资源。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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