株式会社日立高新技术大竹浩人获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利蚀刻处理方法以及蚀刻处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127896B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080020801.8，技术领域涉及：H10P50/28；该发明授权蚀刻处理方法以及蚀刻处理装置是由大竹浩人;服部孝司设计研发完成，并于2020-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻处理方法以及蚀刻处理装置在说明书摘要公布了：为了提供能够对氧化铝膜以相对于氧化硅膜以及氮化硅膜高的选择比高精度地进行蚀刻的蚀刻处理方法以及蚀刻处理装置，具备如下工序：将在上表面配置有氧化铝膜的晶片配置在处理室内，将该晶片维持在‑20℃以下的温度，从在所述晶片的所述上表面的上方空出给定的间隙而配置的板状的构件的多个贯通孔供给氟化氢的蒸气预先决定的期间的，来对所述氧化铝膜进行蚀刻。
本发明授权蚀刻处理方法以及蚀刻处理装置在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻处理方法，其特征在于，具备如下工序： 将在上表面配置有氧化铝膜的晶片配置在处理室内，将该晶片维持在-20℃以下的温度，从在所述晶片的所述上表面的上方空出间隙覆盖该晶片而配置的板状的构件的多个贯通孔供给氟化氢的蒸气预先决定的期间，使凝结的所述氟化氢进入该板状的构件的下表面与所述晶片的上表面之间的所述间隙，来对所述氧化铝膜进行蚀刻。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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