上海微电子装备(集团)股份有限公司王博获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690537B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011564153.0，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法是由王博;朱晓亮设计研发完成，并于2020-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法。该检测方法包括：利用第一相移掩膜版，按照预设的曝光剂量在第一测试硅片上分别以不同的焦面位置进行曝光；检测不同焦面位置每个标记图形的相移误差，对相移误差和焦面位置的关系曲线进行拟合，并获得斜率slope’；计算每个标记图形对应的斜率slope与曝光剂量拟合直线的纵截距b’；最后根据每个标记图形的纵截距b’的离散度，确定狭缝照明的均匀性。本发明实施例可以解决现有照明均匀性测量只能采用离线测量的问题，不仅能够适应复杂多变的实际工况，还能快速判断是否需要重新校准垂向照明系统，简化测量流程，保证机台不停机，持续生产。
本发明授权一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法在权利要求书中公布了：1.一种相移掩膜版，其特征在于，用于进行光刻机狭缝透光均匀性检测，所述相移掩膜版包括分别沿多行多列依次周期排布的多个标记图形； 所述标记图形包括周期排布且相互平行的多个遮光条；所述遮光条包括第一遮光条和第二遮光条，相邻的两个所述第一遮光条之间间隔至少一个所述第二遮光条；所述第一遮光条的一侧或两侧设有相移区； 所述第一遮光条和所述第二遮光条的长度和宽度均相等； 所述第一遮光条和所述第二遮光条的间距等于所述第一遮光条的宽度和所述第二遮光条的宽度； 所述第一遮光条的宽度和所述第二遮光条的宽度的大小均等于光刻机的分辨率； 所述相移区的宽度等于相邻的两个所述遮光条的间距的18～12。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海微电子装备(集团)股份有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励