ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司M·E·帕洛斯基获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司申请的专利污染物检测量测系统、光刻设备及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114930249B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080091254.2，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权污染物检测量测系统、光刻设备及其方法是由M·E·帕洛斯基;A·本迪克塞;R·A·蒙登;H-K·尼恩惠斯设计研发完成，并于2020-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本污染物检测量测系统、光刻设备及其方法在说明书摘要公布了：一种系统400，包括照射系统402、检测器404和比较器406。所述照射系统包括辐射源408和空间光调制器410。所述辐射源产生辐射的束442。所述空间光调制器朝向物体428的表面436引导所述束并调整所述束在所述表面处的空间强度分布。所述检测器接收在所述表面处散射的辐射和由在所述表面附近的结构434散射的辐射444。所述检测器基于所接收的辐射来产生检测信号。所述比较器接收所述检测信号，基于所述检测信号来产生第一图像，以及基于所述第一图像以及调整后的空间强度分布来区分假信号、和与外来颗粒在所述表面上的存在相对应的信号。
本发明授权污染物检测量测系统、光刻设备及其方法在权利要求书中公布了：1.一种系统，包括： 照射系统、检测器以及比较器， 其中所述照射系统包括： 辐射源，所述辐射源被配置成产生辐射的束； 空间光调制器，所述空间光调制器被配置成朝向物体的表面引导所述束，并调整所述束在所述表面处的空间强度分布； 所述检测器被配置成接收在所述表面处散射的辐射和由在所述表面附近的结构散射的辐射，并基于所接收的辐射来产生检测信号； 所述比较器被配置成： 分析所述检测信号； 基于所述分析来确定所述表面上的缺陷的位置；以及 基于所述分析和所述调整来区分假信号和与所述缺陷相对应的信号。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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