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龙图腾网获悉河北工业大学申请的专利一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115546461B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211331208.2，技术领域涉及：G06V10/20；该发明授权一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法是由郭迎春;郭飞;郝小可;于洋;师硕;朱叶;阎刚;吕华设计研发完成，并于2022-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法在说明书摘要公布了：本发明为一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法，该方法针对人脸属性编辑，设计的掩膜去噪模块能够在生成注意力掩膜的时候只生成与要更改属性有关的掩膜，而去除掉一些包含人脸信息的背景掩膜，能够很好的完成属性编辑的任务并同时保留非编辑区域的一致性；设计的特征选择单元能够在特征层面上筛选图像的特征，保留因为网络深度而回丢失的与属性无关的特征，并在解码过程中根据二进制属性向量经由属性编码器丰富信息后的属性风格码进行特征的风格融合；采用的预训练篡改检测模型能够更好的检测生成图像是否经过篡改，提升了模型生成图像的伪真性。

本发明授权一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法在权利要求书中公布了：1.一种基于掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑方法，该方法包括以下内容： 首先对人脸公开的数据集进行预处理，获得输入的原始图像Imgreal，每张人脸图像都对应一个二进制属性标签； 构建一个掩膜去噪和特征选择的人脸属性编辑网络，网络包含两部分：生成器和判别器； 生成器采用编码器-解码器结构，在此基础上添加掩膜去噪模块，编码器包括5层卷积块，解码器包括4层转置选择块以及一层转置卷积块，掩膜去噪模块包括4层转置选择块、一层坐标空间注意力层以及一层转置卷积块； 掩膜去噪模块生成了进行人脸图像重构时的掩膜和进行人脸属性编辑时的编辑掩膜，将两个掩膜进行选择性融合就能得到去除背景噪声并只包含需要进行编辑的区域属性掩膜，通过将此属性掩膜与原图和解码器生成的图像结合； 所述转置选择块包括转置卷积层和特征选择单元，所述的特征选择单元包括属性无关特征提取器和目标风格融合器，属性无关特征提取器包括转置卷积层、Adain自适应实例归一化层、ReLU激活层以及属性无关编码器，目标风格融合器包括通道拼接操作、Adain自适应实例归一化层、ReLU激活层和属性相关编码器；所述的属性无关编码器和属性相关编码器均由三层全连接模块构成，全连接模块包括全连接层、PixelNorm归一化层以及LeakyReLU激活层； 特征选择单元先将编码器中对应卷积块输出的特征输入到属性无关特征提取器中，并根据属性无关风格码进行属性无关特征的提取，将提取的属性无关特征与解码器或掩膜去噪模块中对应转置选择块中转置卷积层输出的特征进行通道拼接，并将拼接后的特征输入到目标风格融合器中与属性相关风格码进行融合，输出的是保留了属性无关信息并进行属性相关风格信息融合之后的特征； 所述属性无关风格码由属性无关向量输入属性无关编码器中获得，所述属性相关风格码由属性相关向量输入属性相关编码器得到，所述属性无关向量由对属性相关向量进行取反获得。

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