深圳市矩阵多元科技有限公司张亮获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利一种静电消除结构及真空镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223899378U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423066156.8，技术领域涉及：H05F3/02；该实用新型一种静电消除结构及真空镀膜设备是由张亮;邵寿潜;李永杰;龚文志;张晓军设计研发完成，并于2024-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种静电消除结构及真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种静电消除结构及真空镀膜设备，属于半导体生产设备技术领域，静电消除结构包括：导电部，所述导电部设置于基片台；消除组件，所述消除组件位于所述导电部的下方，所述消除组件包括活动座和复位部，所述活动座能够上下移动调节地设置于所述消除组件上，并且所述活动座接地设置。导电部的上端会接触基板，与之保持电性连接，在基片台下降的时候，导电部的下端会抵接活动座，实现基板接地，并且活动座能够上下移动调节，不会阻碍基片台继续下降，因此本申请的静电消除结构，能够有效解决基板上静电残留的问题。
本实用新型一种静电消除结构及真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种静电消除结构，其特征在于，包括： 导电部，所述导电部设置于基片台，所述导电部的上端平齐或凸出于所述基片台的上端，所述导电部的下端显露于所述基片台的下端； 消除组件，所述消除组件设置于真空腔体的内部，并位于所述导电部的下方，所述消除组件包括活动座和复位部，所述活动座能够上下移动调节地设置于所述消除组件上，并且所述活动座接地设置，所述复位部作用于所述活动座，用于对所述活动座施加向上的作用力。
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