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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利石墨烯结构体的形成方法和形成装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109516453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811099667.6，技术领域涉及：C01B32/186；该发明授权石墨烯结构体的形成方法和形成装置是由井福亮太;松本贵士设计研发完成，并于2018-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本石墨烯结构体的形成方法和形成装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种不经过催化金属层的形成及其活化处理，而能够形成石墨烯结构体的方法，形成石墨烯结构体的石墨烯结构体形成方法包括：准备被处理基片的步骤；和在上述被处理基片的表面没有催化功能的状态下，通过使用含碳气体作为成膜原料气体进行远程微波等离子体CVD，来在上述被处理基片的表面形成石墨烯结构体的步骤。

本发明授权石墨烯结构体的形成方法和形成装置在权利要求书中公布了：1.一种形成石墨烯结构体的石墨烯结构体的形成方法，其特征在于，包括： 准备被处理基片的步骤；和在所述被处理基片的表面没有催化功能的状态下，通过使用含碳气体作为成膜原料气体进行远程微波等离子体CVD，来在所述被处理基片的表面形成石墨烯结构体的步骤，所述形成石墨烯结构体的步骤通过处理装置进行，所述处理装置包括： 用于收容所述被处理基片的处理容器； 在所述处理容器内将所述被处理基片水平地载置的载置台； 加热所述被处理基片的加热机构； 设置在所述处理容器之上的微波导入装置； 气体导入机构，其向所述处理容器内供给作为成膜原料的包括含碳气体的气体；和对所述处理容器内进行排气的排气机构，所述微波导入装置包括： 用于产生微波的微波产生部；和多个微波辐射机构，其被供给从所述微波产生部所分配的微波，将微波向所述处理容器内辐射，所述微波辐射机构包括： 用于进行阻抗匹配的调谐器； 具有辐射被供给的微波的槽的平面槽天线；和在所述平面槽天线的正下方相邻地设置的嵌入所述处理容器的顶壁的由电介质体材料形成的微波透射板，所述气体导入机构向所述处理容器的顶壁的正下方区域供给作为等离子体生成气体的稀有气体，并且向从所述顶壁至所述载置台上的被处理基片之间的规定位置供给作为所述成膜原料气体的含碳气体，在所述形成石墨烯结构体的步骤中，将被处理基片配置在与生成微波等离子体的等离子体生成区域离开的区域，并根据所需要的成膜原料气体的离解度来向等离子体生成区域与所述被处理基片的附近区域之间的规定位置供给作为所述成膜原料气体的含碳气体并使其离解，将离解后的成膜原料气体供给至所述被处理基片，在所述形成石墨烯结构体的步骤中，所述石墨烯结构体仅由与所述被处理基片平行地形成的石墨烯构成，在所述形成石墨烯结构体的步骤中，所述处理容器内的压力，在所述被处理基片的表面为绝缘体和半导体的情况下为1.33～667Pa，在所述被处理基片的表面为金属的情况下为1.33～400Pa。

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