东京毅力科创株式会社中田克弥获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片干燥方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112331608B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010744130.1，技术领域涉及：H10P72/76；该发明授权基片处理装置和基片干燥方法是由中田克弥;福井祥吾设计研发完成，并于2020-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和基片干燥方法在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理装置和基片干燥方法。本发明的基片处理装置能够进行使用超临界状态的处理流体使在图案形成面形成有液膜的基片干燥的干燥处理，该基片处理装置包括处理容器、保持部和供给部。处理容器收纳基片。保持部在处理容器内保持基片。供给部对处理容器内供给处理流体。而且，保持部包括基座部、多个支承部件和升降机构。基座部配置在基片的下方。多个支承部件设置在基座部上，并能够从下方支承基片。升降机构使多个支承部件升降。本发明能够在使用超临界状态的处理流体使基片干燥的技术中，抑制形成于基片的上表面的图案的倒塌。
本发明授权基片处理装置和基片干燥方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其能够进行使用超临界状态的处理流体使在图案形成面形成有液膜的基片干燥的干燥处理，所述基片处理装置的特征在于，包括： 收纳所述基片的处理容器； 在所述处理容器内保持所述基片的保持部；和对所述处理容器内供给所述处理流体的供给部，所述保持部包括： 配置在基片的下方的基座部； 设置在所述基座部上并能够从下方支承所述基片的多个支承部件； 使所述多个支承部件升降的升降机构；和控制所述升降机构的升降控制部，所述升降控制部根据所述液膜的液量或者膜厚使所述多个支承部件上升或者下降。
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