信越化学工业株式会社寺泽恒男获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112505999B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010951398.2，技术领域涉及：G03F1/24；该发明授权反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法是由寺泽恒男;金子英雄;稻月判臣;高坂卓郎设计研发完成，并于2020-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法。具体涉及一种反射性掩模坯料，其包括衬底、从衬底侧依次形成在衬底的一个主表面上的用于EUV光反射的多层反射膜、保护膜和用于EUV光吸收的吸收体膜以及导电膜。在衬底的其他主表面上形成坐标参比标记时，在另一主表面上形成坐标参比标记。
本发明授权反射性掩模坯料的制造方法、反射性掩模坯料和反射性掩模的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种制造反射性掩模坯料的方法，该反射性掩模坯料包含衬底以及从衬底侧依次形成在衬底的一个主表面上的用于EUV光反射的多层反射膜、保护膜和用于EUV光吸收的吸收体膜，以及形成在衬底的另一主表面上的导电膜，该方法包括以下步骤： A1在所述另一主表面上形成导电膜，A2在所述另一主表面侧上形成坐标参比标记，B1在所述一个主表面上形成多层反射膜和保护膜，通过如下方式测量衬底的平坦度：通过光学系统的调焦以检测坐标参比标记的功能，测量衬底的翘曲或弯曲作为平坦度，B2 检查在步骤B1中形成的多层反射膜和保护膜中的缺陷，基于参照坐标参比标记定义的坐标获得检测的缺陷的位置信息，基于获得的翘曲或弯曲来校准缺陷位置，并将该位置信息保存到记录介质,C1在步骤B2之后，在保护膜上形成吸收体膜，通过如下方式测量衬底的平坦度：通过光学系统的调焦以检测坐标参比标记的功能，测量衬底的翘曲或弯曲作为平坦度，以及C2检查在步骤C1中形成的吸收体膜中的缺陷，基于参照坐标参比标记定义的坐标获得检测的缺陷的位置信息，基于获得的翘曲或弯曲数据来缺陷位置，并将该位置信息保存到记录介质中。
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